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Thèses de doctorat
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Hidalgo Hervé
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Dépôt chimique en phase vapeur de couches minces d'alumine dans une post-décharge micro-onde
Dépôt chimique en phase vapeur de couches minces d'alumine dans une post-décharge micro-onde
année de soutenance
:
2003
auteur
:
Hidalgo Hervé
laboratoire
:
Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème
:
Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description
:
Des couches minces d'alumine sont réalisées sur des substrats de silicium par dépôt chimique en phase vapeur à partir de TriMethylAluminium (TMA), introduit dans la post-décharge d'un plasma micro-onde d'oxygène. Les films colonnaires et sur-stœchiométriques en oxygène présentent un taux d'hydrogène ...
https://aurore.unilim.fr/theses/nxfile/default/5bf66218-3817-4018-89e7-b6e3ca4d72a0/blobholder:0/2003LIMO0056.pdf
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