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Granger Pascal
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Densification de dépôts de zircone yttriée projetés par plasma d'arc Ar-H₂ et N₂-H₂ pour leur utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs
Densification de dépôts de zircone yttriée projetés par plasma d'arc Ar-H₂ et N₂-H₂ pour leur utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs
année de soutenance
:
2007
auteur
:
Noguès-Delbos Elise
laboratoire
:
Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème
:
Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description
:
Dans l'industrie des semi-conducteurs, les puces électroniques, au cours de leur processus de fabrication, peuvent être revêtues d'un dépôt CVD et/ou PVD, réalisé dans des enceintes en quartz (bell jar). Après utilisation, ces dernières, recouvertes d'un dépôt « polluant », sont nettoyées dans une s ...
https://aurore.unilim.fr/theses/nxfile/default/f9f2a754-9ac0-4af7-ba80-4c3d38c21d1b/blobholder:0/2007LIMO4047.pdf
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