Fiche descriptive


Modélisation et dimensionnement d'un procédé de dépôt physique en phase vapeur assisté par plasma thermique

(Document en Anglais)

Thèse de doctorat

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Modalités de diffusion de la thèse :
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Informations sur les contributeurs

Auteur
Ivchenko Dmitrii
Date de soutenance
20-12-2018

Directeur(s) de thèse
Mariaux Gilles - Goutier Simon - Govorykha Itina Tatiana
Président du jury
André Pascal
Rapporteurs
Brault Pascal - Hallo Ludovic
Membres du jury
Mauer Georg

Laboratoire
Institut de Recherche sur les CERamiques (Limoges ; 2012-....)
Ecole doctorale
Ecole doctorale Sciences et Ingénierie des Matériaux, Mécanique, Energétique (Poitiers)
Etablissement de soutenance
Limoges

Informations générales

Discipline
Matériaux Céramiques et Traitements de Surface
Classification
Sciences de l'ingénieur

Mots-clés libres
PS-PVD, Plasma, Nucléation-croissance, Modélisation-simulation numérique, Dépôt, Barrières thermique
Mots-clés
Modélisation CFD,
Technique des plasmas,
Hautes températures,
Dépôt en phase vapeur
Résumé :

Le procédé de dépôt physique en phase vapeur assisté par plasma thermique (PS-PVD) consiste à évaporer le matériau sous forme de poudre à l’aide d’un jet de plasma d’arc soufflé pour produire des dépôts de structures variées obtenus par condensation de la vapeur et/ou dépôt des nano-agrégats. Dans le procédé de PS-PVD classique, l’intégralité du traitement du matériau est réalisée dans une enceinte sous faible pression, ce qui limite les phénomènes d’évaporation ou nécessite d’utiliser des torches de puissance importante. Dans ce travail, une extension du procédé de PS-PVD conventionnel à un procédé à deux enceintes est proposée puis explorée par voie de modélisation et de simulation numérique : la poudre est évaporée dans une enceinte haute pression (105 Pa) reliée par une tuyère de détente à une enceinte de dépôt basse pression (100 ou 1 000 Pa), permettant une évaporation énergétiquement plus efficace de poudre de Zircone Yttriée de granulométrie élevée, tout en utilisant des torches de puissance raisonnable. L’érosion et le colmatage de la tuyère de détente peuvent limiter la faisabilité d’un tel système. Aussi, par la mise en oeuvre de modèles numériques de mécaniquedes fluides et basé sur la théorie cinétique de la nucléation et de la croissance d’agrégats, on montre que, par l’ajustement des dimensions du système et des paramètres opératoires ces deux problèmes peuvent être contournés ou minimisés. En particulier, l’angle de divergence de la tuyère de détente est optimisé pour diminuer le risque de colmatage et obtenir le jet et le dépôt les plus uniformes possibles à l'aide des modèles susmentionnés, associés à un modèle DSMC (Monte-Carlo) du flux de gaz plasmagène raréfié. Pour une pression de 100 Pa, les résultats montrent que la barrière thermique serait formée par condensation de vapeur alors que pour 1 000 Pa, elle serait majoritairement formée par dépôt de nano-agrégats.

Informations techniques

Type de contenu
Text
Format
PDF

Informations complémentaires

Entrepôt d'origine
STAR : dépôt national des thèses électroniques françaises
Identifiant
2018LIMO0099
Numéro national
2018LIMO0099

Pour citer cette thèse

Ivchenko Dmitrii, Modélisation et dimensionnement d'un procédé de dépôt physique en phase vapeur assisté par plasma thermique, thèse de doctorat, Limoges, Université de Limoges, 2018. Disponible sur https://aurore.unilim.fr/ori-oai-search/notice/view/2018LIMO0099