Fiche descriptive


Croissance et caractérisation de nanostructures de nitrure d'aluminium par PECVD

(Document en Français)

Thèse de doctorat

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Informations sur les contributeurs

Auteur
Bouchkour Zakaria
Date de soutenance
03-04-2013

Directeur(s) de thèse
Guinebretière René - Tristant Pascal
Président du jury
BELMAHI Mohammed
Rapporteurs
DJOUADI Abdou - TOMASELLA Eric
Membres du jury
BELMAHI Mohammed - GUINEBRETIERE René - TRISTANT Pascal - JAOUL Cedric - ORLIANGES Jean-Christophe - DUBLANCHE-TIXIER Christelle - THUNE Elsa

Laboratoire
SPCTS - Science des Procédés céramiques et de Traitements de surface – UMR CNRS 7315
Ecole doctorale
École doctorale Sciences et Ingénierie des Matériaux, Mécanique, Énergétique et Aéronautique (Poitiers ; 2009-2017)
Etablissement de soutenance
Limoges

Informations générales

Discipline
Matériaux Céramiques et Traitements de Surface
Classification
Sciences de l'ingénieur

Mots-clés libres
plasmas, nanomatériaux, optoélectronique, dépôt chimique en phase vapeur (CVD), nitrure d'aluminium
Mots-clés
Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma - Thèses et écrits académiques,
Nitrure d'aluminium - Thèses et écrits académiques,
Nanostructures - Thèses et écrits académiques,
Microscopie à force atomique - Thèses et écrits académiques,
Optoélectronique - Thèses et écrits académiques,
Rayons X -- Diffraction - Thèses et écrits académiques
Résumé :

Le nitrure d'aluminium (AlN) est un semi-conducteur suscitant un vif intérêt pour l'optoélectronique. Avec une bande interdite de 6,2 eV, il pourrait permettre d'atteindre les longueurs d'onde de l'UV profond. L'objectif de ce travail de thèse est d'obtenir, de comprendre et de maîtriser la croissance (densité, taille) de nano-ilots d'AlN élaborés par PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma) sur des substrats monocristallins plans puis nanostructurés. Un travail de maîtrise du procédé et d'optimisation des conditions opératoires pour l'obtention de nano-ilots d'AlN a été nécessaire. La compréhension des phénomènes de surface, ainsi que de l'influence des paramètres de dépôt a constitué une grande partie du travail, les plus importants étant les suivants : la température de dépôt, le ratio V/III de débit des précurseurs et la polarisation RF du substrat. La morphologie des dépôts a été caractérisée par microscopie à force atomique, microscopie électronique en transmission. La microstructure des films a quant à elle été étudiée par diffraction des rayons X et des électrons (MET). L'étude des caractéristiques microstructurales et optiques des dépôts obtenus a abouti à la démonstration d'un effet de confinement quantique par des mesures ellipsométriques. Un mécanisme de croissance d'AlN issu de la corrélation des résultats des caractérisations mises en oeuvre est finalement proposé. Enfin, des essais de croissance sur des substrats gabarits ont été initiés.

Informations techniques

Type de contenu
Text
Format
PDF

Informations complémentaires

Entrepôt d'origine
Ressource locale
Identifiant
unilim-ori-30841
Numéro national
2013LIMO4003

Pour citer cette thèse

Bouchkour Zakaria, Croissance et caractérisation de nanostructures de nitrure d'aluminium par PECVD, thèse de doctorat, Limoges, Université de Limoges, 2013. Disponible sur https://aurore.unilim.fr/ori-oai-search/notice/view/unilim-ori-30841