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Densification de dépôts de zircone yttriée projetés par plasma d'arc Ar-H₂ et N₂-H₂ pour leur utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs

Densification de dépôts de zircone yttriée projetés par plasma d'arc Ar-H₂ et N₂-H₂ pour leur utilisation dans l'industrie des semi-conducteurs Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2007
auteur : Noguès-Delbos Elise
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description : Dans l'industrie des semi-conducteurs, les puces électroniques, au cours de leur processus de fabrication, peuvent être revêtues d'un dépôt CVD et/ou PVD, réalisé dans des enceintes en quartz (bell jar). Après utilisation, ces dernières, recouvertes d'un dépôt « polluant », sont nettoyées dans une s ...
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