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Piezoelectric aluminum nitride thin films by PECVD

Piezoelectric aluminum nitride thin films by PECVD Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2009
auteur : Sanchez Mathon Gustavo
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description : Des couches minces polycristallines de nitrure d'aluminium ont été produites en utilisant une technique de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma micro-onde. La distance plasma - injecteur, la température du substrat et la polarisation RF du porte - substrat ont été les principales variab ...
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