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Contribution à la purification des déchets de silicium solaire oxydé à l'aide d'un procédé assisté par plasma thermique

Contribution à la purification des déchets de silicium solaire oxydé à l'aide d'un procédé assisté par plasma thermique Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2014
auteur : De Sousa Matthias
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (1998-2011)
thème : Physique, Sciences de l'ingénieur
Description : La découpe de wafers génère des quantités importantes de déchets de silicium de grade solaire qui ne sont pas revalorisés actuellement à cause de la contamination lors du procédé de découpe. Les travaux présentés dans ce manuscrit portent sur l’étude de la purification de déchets de silicium solaire ...