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Modélisation et dimensionnement d'un procédé de dépôt physique en phase vapeur assisté par plasma thermique

Modélisation et dimensionnement d'un procédé de dépôt physique en phase vapeur assisté par plasma thermique Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2022
auteur : Jaafar Khalil
laboratoire : Institut de Recherche sur les CERamiques
thème : Physique, Sciences de l'ingénieur
Description : Le procédé de dépôt physique en phase vapeur assisté par plasma thermique (PS-PVD) consiste à évaporer le matériau sous forme de poudre à l’aide d’un jet de plasma d’arc soufflé pour produire des dépôts de structures variées obtenus par condensation de la vapeur et/ou dépôt des nano-agrégats. Dans l ...