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Etude de la croissance de couches minces de TiO2 et TiO2 / SiO2 par torche plasma micro-ondes à la pression atmosphérique
Etude de la croissance de couches minces de TiO2 et TiO2 / SiO2 par torche plasma micro-ondes à la pression atmosphérique
année de soutenance
:
2015
auteur
:
Gazal Yoan
laboratoire
:
Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface (1998-2011)
thème
:
Sciences de l'ingénieur
Description
:
Un dispositif de dépôt chimique en phase vapeur à l’air libre, utilisant une torche à injection axiale (TIA), a été développé pour l’élaboration de couches minces de TiO2 et TiO2/SiO2. Les effets des paramètres de dépôt comme la distance torche-substrat (d), la puissance micro-onde incidente et le d ...
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