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Films minces d'oxyde et de nitrure d'aluminium pour applications hyperfréquences : synthèse par PLD et PECVD et caractérisations

Films minces d'oxyde et de nitrure d'aluminium pour applications hyperfréquences : synthèse par PLD et PECVD et caractérisations Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2007
auteur : Cibert Christophe
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description : Ce travail consiste en l'étude de couches minces d'alumine et d'AlN pour leur intégration dans des dispositifs MEMS et FBAR. Les couches d'alumine, déposées à température ambiante et à 800°C, présentent des propriétés intéressantes pour les procédés PLD et PECVD, ouvrant un grand nombre d'applicati ...
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Torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : application au traitement de surfaces métalliques

Torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : application au traitement de surfaces métalliques Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2005
auteur : Tendero Claire
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description : Ce manuscrit est consacré à l'étude d'une torche plasma micro-onde fonctionnant à la pression atmosphérique pour la préparation de surfaces métalliques, plus particulièrement le dégraissage et l'oxydation de surface d'alliage aluminium Al2024 avant revêtement peinture d'une part et le décapage de TA ...
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Couches multifonctionnelles par procédé multitechnique

Couches multifonctionnelles par procédé multitechnique Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2003
auteur : Haure Thibaut
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description : Le présent mémoire, intitulé "Couches multifonctionnelles par procédé de dépôt multitechnique", est consacré à l'étude de revêtements d'alumine, dits duplex, comportant deux couches réalisées par deux procédés de dépôt par voie sèche : la projection plasma sous pression atmosphérique (APS) et la PEC ...
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Dépôt chimique en phase vapeur de couches minces d'alumine dans une post-décharge micro-onde

Dépôt chimique en phase vapeur de couches minces d'alumine dans une post-décharge micro-onde Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2003
auteur : Hidalgo Hervé
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description : Des couches minces d'alumine sont réalisées sur des substrats de silicium par dépôt chimique en phase vapeur à partir de TriMethylAluminium (TMA), introduit dans la post-décharge d'un plasma micro-onde d'oxygène. Les films colonnaires et sur-stœchiométriques en oxygène présentent un taux d'hydrogène ...
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