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Asad Syed Salman
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Torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : application au dépôt de couches minces d'oxyde de silicium
Torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : application au dépôt de couches minces d'oxyde de silicium
année de soutenance
:
2009
auteur
:
Asad Syed Salman
laboratoire
:
Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème
:
Sciences de l'ingénieur
Description
:
Un nouveau procédé de dépôt CVD à l’air libre, utilisant une torche micro-onde à injection axiale, a été développé pour le dépôt de couches minces d’oxyde de silicium. Pour obtenir ces films en toute sécurité, il a été nécessaire de concevoir et d’installer un système d’injection des gaz puis d’inco ...
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