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Étude de l’utilisation d’une torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique pour l’inactivation de bactéries

Étude de l’utilisation d’une torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique pour l’inactivation de bactéries Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2022
auteur : Renoux Laura
laboratoire : Institut de Recherche sur les CERamiques
thème : Physique, Sciences de l'ingénieur
Description : La Torche à Injection Axiale (TIA) a été utilisée pour inactiver des micro-organismes sans effet thermique grâce aux espèces et aux UV du plasma. Pour compléter ce procédé d’inactivation, des couches minces de TiO2 aux propriétés photocatalytiques ont été élaborées par PECVD avec cette même source. ...

Optimisation de cellules solaires en silicium amorphe hydrogéné pour intégration sur photobioréacteurs

Optimisation de cellules solaires en silicium amorphe hydrogéné pour intégration sur photobioréacteurs Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2020
auteur : Brodu Agathe
laboratoire : Institut de Recherche sur les CERamiques
thème : Sciences de l'ingénieur
Description : L'une des principales limites à la culture des microalgues est leur faible efficacité de conversion de la lumière du soleil. Si la culture prend place au sein d’un photobioréacteur, une autre limitation est alors sa consommation énergétique. Certaines technologies de cellules solaires n’absorbent qu ...

Couches mésoporeuses de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique en vue d'applications photovoltaïques

Couches mésoporeuses de TiO2 déposés par PECVD à la pression atmosphérique en vue d'applications photovoltaïques Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2019
auteur : Perraudeau Amélie
laboratoire : Institut de Recherche sur les CERamiques
thème : Physique, Sciences de l'ingénieur
Description : Un système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma doté d’une torche à injection axiale (TIA) a été choisi pour l’élaboration des films de TiO2. Un mode de dépôt dynamique, i.e. en déplaçant le substrat face au plasma, a été mis en place dans l’objectif de recouvrir des surface de l’ord ...

Etude de la croissance de couches minces de TiO2 et TiO2 / SiO2 par torche plasma micro-ondes à la pression atmosphérique

Etude de la croissance de couches minces de TiO2 et TiO2 / SiO2 par torche plasma micro-ondes à la pression atmosphérique Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2015
auteur : Gazal Yoan
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Sciences de l'ingénieur
Description : Un dispositif de dépôt chimique en phase vapeur à l’air libre, utilisant une torche à injection axiale (TIA), a été développé pour l’élaboration de couches minces de TiO2 et TiO2/SiO2. Les effets des paramètres de dépôt comme la distance torche-substrat (d), la puissance micro-onde incidente et le d ...

Dépôts organosiliciés par torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : de l'échelle micrométrique à l'échelle nanométrique

Dépôts organosiliciés par torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : de l'échelle micrométrique à l'échelle nanométrique Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2012
auteur : Landreau Xavier
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Sciences de l'ingénieur
Description : Un procédé de dépôt CVD à l'air libre, utilisant une torche micro-onde à injection axiale (TIA), a été développé pour le dépôt de films organosiliciés sur substrats de silicium monocristallins. Les effets et interactions de plusieurs paramètres de réglages de la TIA sur les propriétés physico-chimiq ...
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Torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : application au dépôt de couches minces d'oxyde de silicium

Torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : application au dépôt de couches minces d'oxyde de silicium Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2009
auteur : Asad Syed Salman
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Sciences de l'ingénieur
Description : Un nouveau procédé de dépôt CVD à l’air libre, utilisant une torche micro-onde à injection axiale, a été développé pour le dépôt de couches minces d’oxyde de silicium. Pour obtenir ces films en toute sécurité, il a été nécessaire de concevoir et d’installer un système d’injection des gaz puis d’inco ...
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Piezoelectric aluminum nitride thin films by PECVD

Piezoelectric aluminum nitride thin films by PECVD Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2009
auteur : Sanchez Mathon Gustavo
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description : Des couches minces polycristallines de nitrure d'aluminium ont été produites en utilisant une technique de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma micro-onde. La distance plasma - injecteur, la température du substrat et la polarisation RF du porte - substrat ont été les principales variab ...
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Torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : application au traitement de surfaces métalliques

Torche plasma micro-onde à la pression atmosphérique : application au traitement de surfaces métalliques Droits d'accès : non autorisé
année de soutenance : 2005
auteur : Tendero Claire
laboratoire : Science des Procédés Céramiques et de Traitements de Surface
thème : Technologie (Sciences appliquées), Sciences de l'ingénieur
Description : Ce manuscrit est consacré à l'étude d'une torche plasma micro-onde fonctionnant à la pression atmosphérique pour la préparation de surfaces métalliques, plus particulièrement le dégraissage et l'oxydation de surface d'alliage aluminium Al2024 avant revêtement peinture d'une part et le décapage de TA ...
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